HMDS فراغ مجفف سلسلة 6210

HMDS فراغ مجففميزات الفرن HMDS-6210 :
في عملية تصنيع أشباه الموصلات ، الطباعة الحجرية هي واحدة من أهم الروابط في عملية نقل الرسومات من الدوائر المتكاملة . في عملية مقاومة للضوء ، معظم مقاومة للضوء مسعور ، في حين أن مجموعات الهيدروكسيل و جزيئات الماء المتبقية على سطح رقاقة السيليكون هي ماء ، مما يؤدي إلى سوء الالتصاق بين مقاومة للضوء ، رقاقة السيليكون ، ولا سيما مقاومة إيجابية ، المطور سوف تغزو تقاطع مقاومة للضوء ، رقاقة السيليكون ، مما يؤدي بسهولة إلى الانجراف ، مقاومة عائمة ، وهلم جرا ، مما يؤدي إلى فشل photoetching نمط نقل ، وفي الوقت نفسه ، الرطب التآكل من السهل أن يحدث التآكل الجانبي . . . . . . . إن viscosifier hmds ( hexamethyldisilazane ) يمكن تحسين هذا الشرط .

HMDS فراغ فرن التجفيف - HMDS-6210 ميزات الفرن :
1 ، غلاف مصنوع من الفولاذ المقاوم للصدأ SUS304 ، بطانة مصنوعة من الفولاذ المقاوم للصدأ 316L المواد . سخانات موزعة بالتساوي في جميع أنحاء الجدار الخارجي من بطانة داخلية ، بطانة داخلية دون أي الملحقات الكهربائية القابلة للاشتعال والمتفجرة في الجهاز . تشديد ، رصاصة والدليل على الزجاج المزدوج الباب لمراقبة الكائنات في غرفة العمل في لمحة .
2 ، HMDS المعالجة فرن باب إغلاق مرنة يمكن تعديلها ، جزءا لا يتجزأ من تشكيل سيليكون المطاط ختم الباب ، لضمان درجة عالية من فراغ في الفرن .
3 ، الحواسيب الصغيرة التحكم في درجة الحرارة ذكي ، مع تحديد وقياس درجة الحرارة المزدوجة العرض الرقمي PID ضبط النفس وظيفة التحكم في درجة الحرارة دقيقة وموثوق بها .
4 ، ذكي شاشة تعمل باللمس نظام مراقبة مطابقة اليابان ميتسوبيشي المجلس التشريعي الفلسطيني وحدة يمكن أن توفر للمستخدمين وفقا لمختلف ظروف عملية تغيير البرنامج ، درجة الحرارة ، فراغ و كل وقت البرنامج .
5 ، HMDS الغاز مختومة شفط التلقائي إضافة تصميم فراغ مربع ختم جيدة الأداء ، وضمان HMDS الغاز لا تسرب خارجي من القلق .
6 ، النظام برمته باستخدام مواد ذات جودة عالية ، لا غبار على المواد ، تنطبق على 100 غرفة الطباعة الحجرية تنقية البيئة .

HMDS نظام المعالجة

المعلمات التقنية من hmds-6020 فراغ مجفف :
امدادات التيار الكهربائي : 220 فولت ± 10 ٪ / 50 هرتز ± 2 ٪
مدخلات الطاقة : 1500W
مجموعة التحكم في درجة الحرارة : درجة حرارة الغرفة + 10 ℃ - 250 ℃ . . . . . . .
درجة الحرارة القرار : 0.1 درجة مئوية
تقلب درجة الحرارة : ± 0.5 درجة مئوية
تحقيق درجة فراغ : 133pa
حجم : 20L
حجم الاستوديو ( مم ) : 300 * 300 * 275
البعد الخارجي ( مم ) : 465 * 465 * 725
الناقل : 1 قطعة
وحدة الزمن : دقيقة

المعلمات التقنية من hmds-6090 فراغ مجفف :
امدادات التيار الكهربائي : 220 فولت ± 10 ٪ / 50 هرتز ± 2 ٪
مدخلات الطاقة : 3000W
مجموعة التحكم في درجة الحرارة : درجة حرارة الغرفة + 10 ℃ - 250 ℃ . . . . . . .
درجة الحرارة القرار : 0.1 درجة مئوية
تقلب درجة الحرارة : ± 0.5 درجة مئوية
تحقيق درجة فراغ : 133pa
حجم : 90L
حجم الاستوديو ( مم ) : 450 * 450 * 450
البعد الخارجي ( مم ) : 615 * 615 * 900
الناقل : 2 قطعة
وحدة الزمن : دقيقة

المعلمات التقنية hmds-6210 فراغ مجفف :
امدادات التيار الكهربائي : AC 380V ± 10 ٪ / 50 هرتز ± 2 ٪
مدخلات الطاقة : 4000W
مجموعة التحكم في درجة الحرارة : درجة حرارة الغرفة + 10 ℃ - 250 ℃ . . . . . . .
درجة الحرارة القرار : 0.1 درجة مئوية
تقلب درجة الحرارة : ± 0.5 درجة مئوية
تحقيق درجة فراغ : 133pa
الحجم : 210L
حجم الاستوديو ( مم ) : 560 * 640 * 600
البعد الخارجي ( مم ) : 720 * 820 * 1050
HMDS المعالجة فرن الناقل : 3 قطع
وحدة الزمن : دقيقة

اختيار الملحقات
فراغ مضخة : العلامة التجارية الألمانية ، Laibao " العاصمة " القطبين سلسلة دوارة مضخة ، والحد من فراغ عالية ، وانخفاض مستوى الضجيج ، عملية مستقرة . توصيل الأنابيب : الفولاذ المقاوم للصدأ منفاخ ، مختومة تماما مضخة فراغ فرن اتصال .

ضرورة HMDS نظام المعالجة :
في عملية تصنيع أشباه الموصلات ، الطباعة الحجرية هي واحدة من أهم الروابط في عملية نقل الرسومات من الدوائر المتكاملة . في عملية مقاومة للضوء ، معظم مقاومة للضوء مسعور ، في حين أن مجموعات الهيدروكسيل و جزيئات الماء المتبقية على سطح رقاقة السيليكون هي ماء ، مما يؤدي إلى سوء الالتصاق بين مقاومة للضوء ، رقاقة السيليكون ، ولا سيما مقاومة إيجابية ، المطور سوف تغزو تقاطع مقاومة للضوء ، رقاقة السيليكون ، مما يؤدي بسهولة إلى الانجراف ، مقاومة عائمة ، وهلم جرا ، مما يؤدي إلى فشل photoetching نمط نقل ، وفي الوقت نفسه ، الرطب التآكل من السهل أن يحدث التآكل الجانبي . . . . . . . إن viscosifier hmds ( hexamethyldisilazane ) يمكن تحسين هذا الشرط . بعد hmds المغلفة على سطح رقاقة السيليكون ، Siloxane مركب يتكون أساسا من خلال تسخين الفرن . وقد نجحت في تغيير سطح رقاقة السيليكون من ماء مسعور ، مسعور مجموعة يمكن أن تكون جنبا إلى جنب مع مقاومة للضوء ، بدور وكيل اقتران .

مبدأ HMDS نظام المعالجة :
HMDS نظام المعالجة يمكن أن معطف HMDS بالتساوي على سطح رقاقة السيليكون الركيزة من خلال معلمات مثل درجة حرارة التشغيل ، وقت المعالجة ، والحفاظ على الوقت في عملية المعالجة HMDS فراغ تجفيف مربع ، مما يقلل من زاوية الاتصال من رقاقة السيليكون بعد العلاج HMDS ، ويقلل من كمية من مقاومة للضوء ، وتحسين الالتصاق بين مقاومة للضوء رقاقة السيليكون .

سير العمل العام لنظام المعالجة HMDS :
أولا تحديد درجة حرارة التشغيل . عادة ما تكون إجراءات المعالجة هي : فتح مضخة فراغ ضخ فراغ ، عندما تصل إلى درجة فراغ عالية من ثبات حقيقي داخل تجويف ، بدءا من ملء مع النيتروجين ، تصل إلى درجة فراغ منخفضة ، فراغ ، عملية ملء النيتروجين ، والوصول إلى مجموعة من ملء النيتروجين مرة ، تبدأ في الحفاظ على فترة من الزمن ، حتى أن رقاقة السيليكون ساخنة بما فيه الكفاية ، والحد من الرطوبة على سطح رقاقة السيليكون . ثم يبدأ ضخ فراغ مرة أخرى ، يملأ HMDS الغاز ، بعد الوصول إلى الوقت المحدد ، توقف عن شحن HMDS الدواء السائل ، يدخل عقد المرحلة ، يسبب رقاقة السيليكون تتفاعل مع HMDS تماما . عندما يتم التوصل إلى عقد الوقت المحدد ، فراغ ضخ يبدأ مرة أخرى . ملء مع النيتروجين لإكمال العملية برمتها . آلية التفاعل بين hmds رقاقة السيليكون هو مبين في الشكل : أولا ، يتم تسخينها إلى 100 ℃ - 200 ℃ لإزالة الرطوبة من سطح رقاقة السيليكون ، ثم hmds يتفاعل مع سطح أوه ، على سطح رقاقة السيليكون لإنتاج السيليكون الأثير ، والقضاء على السندات الهيدروجين ، مما يجعل سطح القطبية غير القطبية . رد فعل كامل يستمر حتى الفراغية عائق ( أكبر trimethylsilyl ) يمنع المزيد من ردود الفعل .

العادم : HMDS البخار الزائد ( غاز الذيل ) سيتم ضخها من قبل مضخة فراغ ، العادم إلى جمع النفايات الخاصة الأنابيب . عندما لا يكون هناك خط أنابيب لجمع النفايات الغاز الخاص ، يجب أن يكون هناك علاج خاص .